年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮（Azoto Trifluoruro）,化学式NF3,是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体,具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中, 三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体, 在半导体芯⽚、平板显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域,三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体和反应腔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器,通过与氢反应在瞬间放出⼤量热来实现其应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料 ，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推进剂使⽤。

Il trifluoruro di azoto, formula chimica NF3, è un forte agente ossidante. Essendo un importante gas speciale industriale, ha una vasta gamma di applicazioni.
Nell'industria microelettronica, il trifluoruro di azoto è un eccellente gas per l'attacco al plasma; Nei chip dei semiconduttori, nei display a schermo piatto, nella fibra ottica, nelle celle fotovoltaiche e in altri settori produttivi, il trifluoruro di azoto viene utilizzato principalmente come gas di attacco al plasma e come detergente per cavità di reazione.
Può anche essere utilizzato nei laser chimici ad alta energia per ottenere la sua applicazione reagendo con l'idrogeno per emettere una grande quantità di calore in un istante. Il trifluoruro di azoto viene utilizzato anche come combustibile ad alta energia e come ossidante e propellente nei lanci di razzi.